control de grabado anisotrópico. Otros halocarbonos, así como la presencia de aire u oxígeno, son perjudiciales para el control del tetrafluoruro, lo que da como resultado un control superior del proceso, lo que da como resultado una mejor dimensión y perfil. En condiciones de Carbonor CF2 de mayor pureza, los radicales libres de flúor están típicamente en forma de CF3 El tetrafluoruro de carbono es relativamente inerte en condiciones normales y es un asfixiante. En procesos de plasma RF. El tetrafluoruro de carbono se utiliza con oxígeno para grabar polisilicio, dióxido de silicio y nitruro de silicio.El tetrafluoruro de carbono es una fuente de radicales libres de flúor o fluoruro de carbono que se utilizan en una variedad de grabaciones de obleas.
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